최근 중국 지식재산권국은 2025년 1-3월 지재권 주요 통계 데이터 속보를 발표하였다. 2024년1~3월과 비교하여, 발명 전리 등록 건수는 동기 대비 20.99% 감소하였고 실용신안 등록 건수는 동기 대비 2.73% 감소하였으며, 디자인 등록 건수는 동기 대비 10.07% 증가하였다.

국가지식재산권국이 얼마전에 발표한 심사·등록 월간 보고서에 따르면, 2024년1월과 비교하여, 2025년 1월 발명전리 등록량은 동기 대비 13.93% 감소하였으며, 실용신안은 4.99% 감소하였으며, 디자인은 10.69% 증가하였다.

2024년1-2월과 비교하여, 2025년 1~2월 발명전리 등록량이 동기 대비 15.93% 감소하였고, 실용신안은 2.67% 감소하였으며, 디자인은 9.34% 증가하였다. 이에 따라 발명전리와 실용신안 등록량은 3개월 연속 전년 대비 감소세를 지속하였으며, 특히 발명전리 등록량 감소율은 금년 최고치를 기록하였다.

출처: IPRpark

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